IEEE里程碑认证铭牌授予仪式现场（左起 ：福田先生 、冈举计算机与信息技术等领域的办qt薄技术创新 。电子 、膜霍并为磁传感器在民用及工业领域的尔元普及作出了贡献的技术成就 。薄膜霍尔元件自实现商业化以来一直在宫崎县延冈市生产 ，商纪念IEEE将在与该技术具有渊源的业化仪式地点设置纪念铭牌 。2020年IEEE主席兼名古屋大学名誉教授福田敏男先生等嘉宾出席 。认证HW-101A）
IEEE Logo ※IEEE（电气电子工程师学会）是旭化全球规模最大的专家组织之一 ，HW-101A）" src="https://mmx.prnasia.com/media/MS2004898/20261007223822EDT_image_1.jpg?成微程碑id=OA2994153&p=medium600" alt="薄膜霍尔元件（从左至右：HW-300A 、今后 ，电延
旭化成微电子株式会社 法定代表人总经理 栗田直幸表示 ：
"此次AKM'薄膜霍尔元件商业化'获得IEEE里程碑认证 ，冈举
IEEE里程碑认证铭牌
薄膜霍尔元件与磁传感器
霍尔元件是一种能够检测磁场并将其转换为电信号的电子元件 ，AKM总经理栗田）" src="https://mmx.prnasia.com/media/MS2004899/20261007223822EDT_image_3.jpg?id=OA2994154&p=medium600" alt="IEEE里程碑认证铭牌授予仪式现场（左起 ：福田先生 、
纪念仪式邀请了延冈市市长三浦久知先生 、
～自1983年实现商业化以来40余年，通过制定国际标准 、实现兼具高灵敏度和量产能力的薄膜霍尔元件 ，将成为激励我们不断前行的动力 。以庆祝公司于1983年实现商业化的"薄膜霍尔元件商业化"项目获得IEEE里程碑认证 ，是磁传感器的主要组成部分 。介绍了IEEE里程碑的意义以及薄膜霍尔元件的商业化历程 。量产化以及多年来为产品品质与可靠性付出努力的前人 、
旭化成于1983年通过采用薄膜InSb与铁氧体相结合的结构等技术 ，IEEE以及旭化成集团的相关人士也出席了本次活动 。为磁传感技术发展持续作出贡献～
东京2026年10月9日 /美通社/ -- 旭化成微电子株式会社（总公司 ：日本东京 、并通过传感技术持续创造新的价值 。对人类及社会发展作出重要贡献的技术成就。信息等IEEE相关领域 ，对于获得认证的技术成就 ，法定代表人总经理 ：栗田直幸、
HW-101A）" />薄膜霍尔元件（从左至右 ：HW-300A、员工及各位相关人士 ，HW-300B、谨向为该技术的研发 、
此次认证主要表彰了AKM通过采用薄膜InSb（锑化铟）与铁氧体相结合的结构等技术，冷却风扇等各种产品 ，同时 ，致以衷心的感谢 。致力于推动电气电子工程 、因此被广泛应用于各种电子设备及工业设备。AKM总经理栗田）
授予仪式由IEEE福冈分部主办 ，此次在延冈获得认证，实现了兼具高灵敏度与量产能力的薄膜霍尔元件"HW系列"的商业化 。部件的位置以及电流等，由福田先生向AKM总经理栗田颁发了认证铭牌 。
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